涂胶显影机（SUSS)：Arm传送方式，涂胶显影盘边缘吸附，一体化为MEMS结构器件定制设备，有多种胶管支撑工艺选择。

双面曝光机(SUSS)：支持双面曝光，正面曝光对准精度1um，背面曝光对准精度1.5um，支持最小CD尺寸2um工艺。

步进光刻机(Ultatech Stepper)：对准精度0.3um，工艺最小CD 0.8um，可满足大部分小线宽MEMS工艺CD。